netbsp;1o无尘实验室莫水这几天都是呆在这里面。除了研究制作三位一体的芯片局部分解电路外其他的更多的时间是在进行“卦象芯片”的分解电路研究。
自从fsb被自己的“芯片空间”突破了后从实验室暗藏的监控摄像资料中莫水现了现在这些监控摄像更是加强了监控力度从以前的每天o点向美国实验室总部送摄像资料数据包的惯例变成了每天12点、o点分两个时段送录像数据包。因此每次莫水有进行相关“卦象芯片”的研究的时候基本上都会选择下午时段这样晚上回去有时间通过“电子空间”把那些相关的录像内容给作点修改免得被现关键的东西了。
阿贝尔实验室自从得到莫水的“芯片空间”专利权后立即在美国的专利局进行登记同时由实验室总部的系统分析专家团通过全面地进行“芯片空间”应用分析后向全球的实验分室布了新的系统研究支持方案并通过掌握的众多的系统周边的硬件研究实验室布新的系统需求。
就这样通过了美国阿贝尔物理实验室全球的各个it相关的基础性的研究实验室开始了新一轮的技术升级研究热。其实哪个实验室会没有技术储备呢？！现在只是因为这些的技术储备的某些方面已经可能将会走向台面上了因此对新的技术新的方向个公告表示严重关切之后便继续着自己的研究罢了。
莫水对于这些资讯基本上是充耳不闻除了在心里bs了全球的那些知名的实验室外继续埋头着自己的实验。
这阵子由于程鹏在对i/o总线的系统集成方面进行研究因此莫水难得的有单独行动时间。在netbsp;与netbsp;里面由于阿贝尔实验室总部的新的系统解决方案的布现在实验室里本来就不多的人基本上都往设计室去了与时俱进实验室怎么说都是为了经济效益服务的因此在新的系统解决方案面前有很多的项目需要进行研究的。这样的好处就是为莫水创造了大量的安全实验时间。
经过了几天的关键性电路的研究实验后莫水现在终于可以着手进行完整芯片的制作了。为了能够保障这一行为动作的绝对安全与隐秘在netbsp;1o里面莫水制造了大量的在研究南北桥芯片三位一体的研究工作的录像。
在作足了各项准备工作后莫水来到上海的初衷来到阿贝尔实验室的目的现在终于走上了最后的关键步骤。
netbsp;1o实验室只是提供了9o纳米的芯片制造设备对于65纳米、3o纳米的设备老美是不可能会放到中国的实验室的。但是就算是9o纳米的制造设备还是完全满足了莫水的要求如果不是受限于芯片物理尺寸的大小莫水甚至还希望采用更低标准的制造设备1oo纳米或则是13o纳米的设备都是可以的。毕竟“卦象芯片”所使用的晶体管不会过1.o1亿个的。当然如果想开更高端的性能更优越的“卦象芯片”那么更高水平的芯片纳米制造设备是必须的。
星期五中午12点过一刻netbsp;实验室内莫水正紧盯着监控仪器。
由于是采用纳米蚀刻法(nanoimprint1ithography简称nil)来进行芯片制作因此关键的地方就是要设计好模型。而这模型莫水已经是完全地建立了起来并且也经过了局部的电路试验所以出成品的成功率是相当的高的。
其实整个芯片结构是相当简单的就是简单的电子卦的一个集合而已。但是越简单的东西所能挥的效果就越大。
易简而天下之理得矣！“卦象芯片”其实也就是这个道理。
在实验台上进行芯片的制作过程说快也快说不快那当然不能和工业化的比较。在下午上班之前莫水已经得到了三片3cm*3cm*3cm这样尺寸的芯片。为了能够得到这样的尺寸的晶圆莫水也是煞费苦心过。这种尺寸的芯片应该是在业界从来不曾出现过的。毕竟从常理来看芯片厚度是关系到芯片散热的关键问题把芯片厚度尺寸作的如此厚那是根本不可想象的但是现在在“卦象芯片”中量子态的电子集团的运行基本不产生热效应这为芯片的厚度创造了条件。